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真空蒸鍍?cè)?
將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。
蒸鍍方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。
（1）直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過(guò)真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬慑冧X薄膜。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進(jìn)行表面涂布。另外，在蒸鍍過(guò)程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有一定的限度。
(2)轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國(guó)外已將轉(zhuǎn)移法應(yīng)用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國(guó)主要采用轉(zhuǎn)移法生產(chǎn)鍍鋁紙。[2]
鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程：
基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測(cè)厚→展平→收卷
目前應(yīng)用多的鍍鋁薄膜主要有聚酯鍍鋁膜（VMPET）和CPP 鍍鋁膜（VMCPP）。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長(zhǎng)了內(nèi)容物的保質(zhì)期，又提高了薄膜的亮度，從一定程度上代替了鋁箔，也具有價(jià)廉、美觀及較好的阻隔性能，因此，鍍鋁膜在復(fù)合包裝中的應(yīng)用十分廣泛，目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。
塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍?cè)诨谋∧け砻?。蒸鍍時(shí)，將卷筒薄膜置放于真空室內(nèi)，關(guān)閉真空室抽真空。當(dāng)真空度達(dá)到一定（4×10－4mba以上）時(shí)，將蒸發(fā)舟升溫至1300℃～1400℃，然后再把純度為99．9%的鋁絲連續(xù)送至蒸發(fā)舟上。調(diào)節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量，開(kāi)通冷卻源，使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā)，從而在移動(dòng)的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。
怎么測(cè)量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度
1、通常采用下述三種方法來(lái)測(cè)量鍍鋁膜的厚度：
A.光密度法:即以光線透過(guò)鍍鋁膜的密度來(lái)測(cè)量。用光密度法測(cè)量鍍鋁膜的厚度方便、準(zhǔn)確。
B.采用表面方塊電阻測(cè)量法，這種方法比較簡(jiǎn)單實(shí)用。通常來(lái)說(shuō)，鋁層厚度對(duì)應(yīng)的表面電阻一般在1~2之間。
C.目測(cè)估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對(duì)著日光燈或天空看，以看不見(jiàn)的光線為準(zhǔn)，鍍層厚度應(yīng)達(dá)400?以上。
2、鍍鋁牢度
一般是用膠帶來(lái)檢測(cè)鍍鋁牢度的。
具體方法為：把長(zhǎng)約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，另一只手勻速剝離膠粘帶，再用帶強(qiáng)光的燈箱檢驗(yàn)鋁層脫落轉(zhuǎn)移的情況便可。
或者把一種特別制備的試驗(yàn)?zāi)づcPET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗(yàn)機(jī)剝離，測(cè)定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉(zhuǎn)移情況。
3、鍍鋁膜鍍層的均勻度
電阻層電阻的偏差，實(shí)際就是反映了鍍鋁層的均勻度。沿被測(cè)樣品橫向等距離地取8~10個(gè)規(guī)格為100mm×100mm的試樣，用電阻測(cè)量?jī)x分別測(cè)出方塊的電阻值，取其算數(shù)平均值，即為該試樣的鍍層電阻，再計(jì)算其電阻值的上、下偏差，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。
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